奈影精要
Essence of Nanolithography
學期
107-2
學分
2
學分
當期課號
5381
永久課號
IEP5647
開課單位
電子物理學系
授課教師
林本堅
校區
光復
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週四 |
|---|---|
3 10:10–11:00 | 奈影精要 SC105 2 節連堂 |
4 11:10–12:00 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
1. Introduction of the innovations and opportunities in nanolithography. 2. To widen the perspective in advanced semiconductor processing and scaling. 3. To develop innovative and analytic skills.
先修科目
Electromagnetics (I)(II)
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Introduction |
| 第 2 週 | National Holiday |
| 第 3 週 | Tool configurations |
| 第 4 週 | Proximity diffraction |
| 第 5 週 | Scaling equations, E-D methodology |
| 第 6 週 | Resist |
| 第 7 週 | National Holiday |
| 第 8 週 | Overlay |
| 第 9 週 | Fourier space, RET1-Off axis illumination |
| 第 10 週 | Midterm exam |
| 第 11 週 | RET2-Phase shifting mask |
| 第 12 週 | RET3-OPC |
| 第 13 週 | RET4-Polarized Illumination |
| 第 14 週 | Throughput and cost |
| 第 15 週 | Immersion Lithography |
| 第 16 週 | EUV Lithography |
| 第 17 週 | EUV Lithography |
| 第 18 週 | Final exam |
教科書
Optical Lithography; Here is Why, Burn J. Lin, SPIE Press 2010
Office Hours
- 地點
- SC552
- 時間
- 4EFG
- 聯絡方式
- 56108 (call before coming)