雷射概論
Laser Concept
學期
109-2
學分
3
學分
當期課號
2619
永久課號
SET1354
開課單位
系統工程與科技學士學位學程
授課教師
系統工程與科技學程
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週二 |
|---|---|
A 18:30–19:20 | 雷射概論 3 節連堂 |
B 19:30–20:20 | |
C 20:30–21:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
本課程為介紹雷射原理及應用之基本課程,從雷射原理的介紹以及未來技術發展的趨勢,使學生能對雷射原理及應用工程技術有基本的整體概念。
先修科目
普通物理學、電子學
評分方式
報告、測驗 期中報告30%,期末報告30%,平時成績40%
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | 第1週:導論 第2週:雷射產生的基本原理 第3週:光學諧振腔與雷射模式 第4週:高斯光束 第5週:雷射工作物質的增益特性 第6週:雷射源的工作特性 第7週:雷射特性的控制與改善 第8週:典型雷射源 第9週:期中考 第10週:半導體雷射源 第11週:光通信系統中的雷射源和放大器第12週:雷射全像投影技術 第13週:雷射與物質的相互作用 第14週:雷射在其他領域的應用 第15週:光達 第16週:雷射發展趨勢與總結I 第17週:雷射發展趨勢與總結II 第18週:期末考 |
教科書
Introduction to Laser Technology, 4th Edition,2012年,C. Breck Hitz, James J. Ewing, Jeff Hecht,Wiley-IEEE Press,978-1-118-219485