半導體實驗
Semiconductor Laboratory
學期
109-2
學分
2
學分
當期課號
5025
永久課號
IEE5571
開課單位
電子研究所
授課教師
侯拓宏
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週三 |
|---|---|
5 13:20–14:10 | 半導體實驗 LAB 2 節連堂 |
6 14:20–15:10 | |
A 18:30–19:20 | 半導體實驗 LAB 3 節連堂 |
B 19:30–20:20 | |
C 20:30–21:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
本課程分教室課與實驗課兩部份。教室課講述半導體技術發展、潔淨室環境、實驗室安全、單元製程基本原理、MOS電容與PN接面測量原理等。實驗部份,包括晶片清洗、氧化、微影、蝕刻、擴散、薄膜沉積、MOS電容與PN接面等。內容強調製程實務與學生實際操作,期能使學生了解在潔淨室中工作注意事項、培養正確的安全衛生防護觀念、以及具備半導體單元製程的操作能力。
先修科目
修過或同時選修半導體元件物理較佳。
教學方式
教室課:講授安全防護觀念、單元製程原理、及實驗注意事項。 實作課:博士班助教帶領,親自動手製作MOS電容及PN接面等基本元件,並進行電性測量。
評分方式
期末測驗:40% 上課參與:10% 實作課表現:20% 期末報告:30%
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | History of Nano Facility Center and Semiconductor Lab. |
| 第 2 週 | Clean Room Environment |
| 第 3 週 | Safety Issues |
| 第 4 週 | Clean Process and Experiments |
| 第 5 週 | Oxidation Process and Experiments |
| 第 6 週 | Lithography Process and Experiments |
| 第 7 週 | Etching Process and Experiments |
| 第 8 週 | Doping Process and Experiments |
| 第 9 週 | Deposition Process and Experiments |
| 第 10 週 | Experiments |
| 第 11 週 | Electrical Measurement Methods and Experiments |
| 第 12 週 | Electrical Measurement Methods and Experiments |
| 第 13 週 | Experiments |
| 第 14 週 | Experiments |
| 第 15 週 | Experiments |
| 第 16 週 | Submit Final Report |
教科書
使用自編講義。
Office Hours
- 地點
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- 時間
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