雷射概論
Laser Concept
學期
110-2
學分
3
學分
當期課號
2881
永久課號
SET1354
開課單位
系統工程與科技學士學位學程
授課教師
曹亞嵐
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週一 |
|---|---|
A 18:30–19:20 | 雷射概論 3 節連堂 |
B 19:30–20:20 | |
C 20:30–21:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
本課程為介紹雷射原理及應用之基本課程,從雷射原理的介紹以及未來技術發展的趨勢,使學生能對雷射原理及應用工程技術有基本的整體概念。
先修科目
普通物理學、電子學
教學方式
參考書:Introduction to Laser Technology, 4th Edition,2012年,C. Breck Hitz, James J. Ewing, Jeff Hecht,Wiley-IEEE Press,978-1-118-219485
評分方式
期中報告30%,期末報告30%,平時成績40%
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | 導論 |
| 第 2 週 | 雷射產生的基本原理 |
| 第 3 週 | 光學諧振腔與雷射模式 |
| 第 4 週 | 高斯光束 |
| 第 5 週 | 雷射工作物質的增益特性 |
| 第 6 週 | 雷射源的工作特性 |
| 第 7 週 | 雷射特性的控制與改善 |
| 第 8 週 | 典型雷射源 |
| 第 9 週 | 期中考 |
| 第 10 週 | 半導體雷射源 |
| 第 11 週 | 光通信系統中的雷射源和放大器 |
| 第 12 週 | 雷射全像投影技術 |
| 第 13 週 | 雷射與物質的相互作用 |
| 第 14 週 | 雷射在其他領域的應用 |
| 第 15 週 | 光達 |
| 第 16 週 | 雷射發展趨勢與總結I |
| 第 17 週 | 雷射發展趨勢與總結II |
| 第 18 週 | 期末考 |