光學微影與解析度增益技術

Optical Micro-lithography(OML) and Resolution Enhancement Techniques

學期

111-1

學分

3 學分

當期課號

535416

永久課號

EEEO30011

開課單位

光電工程學系

授課教師

余沛慈

校區

光復

類別

選修

上課時間表

節	週二
2 09:00–09:50	光學微影與解析度增益技術 EO115 3 節連堂
3 10:10–11:00
4 11:10–12:00

* 根據陽明交大上課時間表所列

概述

本課程希望藉由深入淺出的介紹,使學生與不同領域的專業人士能對光學微影製程與技術演進建立基本的瞭解,期能互相溝通與合作,將各自不同領域的專業能力應用於解決現今半導體微影製程之挑戰,並開創新的契機。

先修科目

無

教學方式

1. 加入視訊會議,請於上課時間Tue. 10:10-12:00點選以下連結:meet.google.com/bex-uqqn-kjp 2. 請加FB 光學微影與解析度增益技術群組 https://www.facebook.com/groups/604143683263491/ 3. HW助教: 蘇聖翔

評分方式

Homework: 40% Final exam: 30% Project / Presentation: 30%

課程大綱

I. Introduction to Optical Microlithography
II. Resolution Enhancement Techniques (RET)
III. Future Lithography Technologies

週次計畫

週次	主題
第 1 週	Chapter 0. Introduction to Semiconductor and Industry
第 2 週	Chapter 1. Introduction to Semiconductor Lithography
第 3 週	Chapter 2. Aerial Image Formation
第 4 週	Chapter 3. Optical Proximity Correction
第 5 週	Chapter 4. Resolution Enhancement Technologies (RETs)
第 6 週	Chapter 5. Next Generation Technology
第 7 週	Chapter 6. Introduction to Mask Making
第 8 週	Chapter 7. Photoresist
第 9 週	Chapter 8. Lithographic Control in Semiconductor Manufacturing
第 10 週	Chapter 9. Metrics of Lithography
第 11 週	Chapter 10. Inverse Lithography: IM / IS / SMO

教科書

Text book: 1. Chris A. Mack, Fundamental Principles of Optical Lithography, (c) 2007 e-BOOK: http://onlinelibrary.wiley.com/book/10.1002/9780470723876 Reference: 2. Burn Lin : Optical Lithography: Here is Why e-book (NCTU access): https://www.spiedigitallibrary.org/ebooks/PM/Optical-Lithography-Here-Is-Why/eISBN-9780819481825/10.1117/3.821000 3. References for Fourier Optics and Optical Imaging 4. SPIE Digital library

Office Hours

地點: Office: EO315B
時間: Office hour: by appointment
聯絡方式: Email: peichen.yu@nycu.edu.tw Tel: 03-5712121 ext. 56357