奈米製造與量測技術
Nanofabrication and Characterization
學期
111-1
學分
3
學分
當期課號
536400
永久課號
ENMS30015
開課單位
材料科學與工程學系奈米科技碩博班
授課教師
柯富祥
校區
光復
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週三 |
|---|---|
2 09:00–09:50 | 奈米製造與量測技術 EF207 3 節連堂 |
3 10:10–11:00 | |
4 11:10–12:00 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
目前業界的奈米製程已經到4 nm以下之水準,本課程介紹基本的奈米製造及量測技術,特別會著重在奈米製程之新技術,以使同學瞭解業界的製造技術與趨勢,未來並可以應用在其他需要奈米製程之產業上。
先修科目
普通物理及普通化學 上課教室工六館201室
教學方式
使用筆記型電腦與投影機。 奈米製造影片學習。
評分方式
共2次考試(2x47%=94%),出席率6%。
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Chap 1. Trend of industrial nanofabrication |
| 第 2 週 | Chap 2. Basic processes for industrial nanofabrication |
| 第 3 週 | Chap 3. Material and tool for optical submicron-scale fabrication |
| 第 4 週 | Chap 3. Material and tool for optical submicron-scale fabrication |
| 第 5 週 | Chap 4. Material and tool for optical nano-scale fabrication |
| 第 6 週 | Chap 5. Principle and RET for optical lithography |
| 第 7 週 | Chap 5. Principle and RET for optical lithography |
| 第 8 週 | EXAM I (chapter 1-5) |
| 第 9 週 | Chap 6. Optical liquid immersion nanofabricationn |
| 第 10 週 | Chap 7. Optical extreme ultraviolet nanofabrication |
| 第 11 週 | Chap 8. Photomask and reticle fabrication |
| 第 12 週 | Chap 9. Gaussian electron beam nanofabrication |
| 第 13 週 | Chap 10. Electron projection nanofabrication |
| 第 14 週 | Chap 11. Nanoimprinting nanofabrication |
| 第 15 週 | Chap 12. Etching technique |
| 第 16 週 | EXAM II (chapter 6-12) |
教科書
以下書籍僅供參考,上課使用自編講義,內容均來自業界資料及最新的期刊與科技報導。 (1) Alfred. K. Wong, Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography, SPIE (2001). (2) Michael Quick and Julian Serda, Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall (2001). (3) H. Xiao, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall (2001). (4) Ralph Dammel, Diazonaphthoquinone-based Resists, SPIE (1993). (5) Harry J. Levinson, Principles of Lithography, SPIE (2001). (6) 自編講議
Office Hours
- 地點
- 工程六館357室
- 時間
- 週四下午1:30-2:30
- 聯絡方式
- NCTU extension 55803