校際選修

115-1 選課時程

進行中

  • 初選第一階段 6/15/2026
  • 初選第二階段 6/22/2026
  • 校際選修 8/24/2026
  • 初選第三階段 8/31/2026
  • 開學後加退選 9/7/2026
  • 逾期加退選 9/21/2026
選課資源

先進元件製造技術導論

Introduction to advanced device fabrication technology

學期
111-2
學分
1 學分
當期課號
539003
永久課號
IIPS30014
開課單位
前瞻半導體研究所
授課教師
李耀仁
校區
光復
類別
選修
上課時間表
週三
8
16:30–17:20
先進元件製造技術導論
A310

* 根據陽明交大上課時間表所列

概述

This course will focus on advanced device fabrication technologies, covering advanced logic technologies (CMOS platform technologies, High mobility channels, GAA nanowires, and nanosheets-based devices), emerging devices (2D material devices, steep-slope devices, and Cryogenic Devices), and memory technologies (conventional memories, emerging memories, and 3D memory technologies)

先修科目

英語授課

評分方式

期中考35%、作業30%、期末專題報告35%

週次計畫
週次主題
第 1 週Introduction
第 2 週Advanced logic technology: CMOS platform technologies
第 3 週Advanced logic technology: CMOS platform technologies
第 4 週Advanced logic technology: High mobility channels
第 5 週Advanced logic technology: High mobility channels
第 6 週Advanced logic technology: High mobility channels
第 7 週Advanced logic technology: GAA (vertically stacked) nanowires and nanosheets based devices
第 8 週Advanced logic technology: GAA (vertically stacked) nanowires and nanosheets based devices
第 9 週Mid-term exam
第 10 週Emerging device : 2D devices
第 11 週Emerging device : 2D material devices
第 12 週Emerging device : Steep-slope devices
第 13 週Emerging device : Cryogenic Devices
第 14 週Memory technology : Conventional memories
第 15 週Memory technology: Emerging memories & 3D memory technologies
第 16 週Final-term presentation
第 17 週
第 18 週
教科書

(1) 教師自編講義 (conference proceedings :IEDM/VLSI 2020~2022)