校際選修

115-1 選課時程

進行中

  • 初選第一階段 6/15/2026
  • 初選第二階段 6/22/2026
  • 校際選修 8/24/2026
  • 初選第三階段 8/31/2026
  • 開學後加退選 9/7/2026
  • 逾期加退選 9/21/2026
選課資源

半導體工程

Semiconductor Engineering

學期
112-2
學分
3 學分
當期課號
515153
永久課號
EEEC20108
開課單位
電機工程學系
授課教師
洪瑞華
校區
光復
類別
選修
上課時間表
週一
5
13:20–14:10
半導體工程
ED301
3 節連堂
6
14:20–15:10
7
15:30–16:20

* 根據陽明交大上課時間表所列

概述

本課程介紹半導體相關製程與先進設備元件,安排台積電新人訓練中心之 課程, 提供了兩天下午課程,供同學見習,和台積新進工程師同步掌握最先進的半導體設備元件實務。

先修科目

教學方式

lectures

評分方式

Midterm exam 45% Final Exam 45% Attendance rate 10%

週次計畫
週次主題
第 1 週Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology
第 2 週對半導體先進設備 元件 有興趣的同學們看過來 ! 台積電新人訓練中心 ( 提供了兩天下午課程, 供同學見習,歡迎踴躍報名參加,和台積新進工程師 同步掌握最先進的半導體設備元件實務 (1)Plasma基礎原理與應用  (a)Plasma形成與電子碰撞介紹 (b)半導體製程應用 (2)Plasma 設計種類與特性 (a)CCP/ICP/DC/Downstream (b)介紹RF delivery system 基礎介紹 (3)RF傳輸與阻抗匹配 (a)實體操作 Plasma 變化觀察與真空電容檢測
第 3 週(1) Vacuum應用與基礎原理 (a)半導體製程真空應用 (b)Vacuum產生與系統介紹 (2)Pump 工作原理介紹  Dry Pump/Turbo/Cryo 原理 (a)Gauge 種類原理介紹 (b)Pirani/Convectron/Baratron/CCIG/HCIG 介紹 (3)實體操作 Vacuum 建立與測漏
第 4 週Introduction to IC Fabrication(1)
第 5 週Introduction to IC Fabrication(2)
第 6 週Wafer Manufacturing and Epitaxy Growing(1)
第 7 週Wafer Manufacturing and Epitaxy Growing(2)
第 8 週Wafer Manufacturing and Epitaxy Growing(3)
第 9 週期中考
第 10 週Photolithography
第 11 週Thin Film Processing (CVD and PVD)
第 12 週Thin Film Processing (CVD and PVD)
第 13 週Etching Technology
第 14 週Ion Implantation
第 15 週Thermal Diffusion
第 16 週期末考
教科書

Hong Xiao, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall

Office Hours
地點
工程四館 509 room
時間
1 hour before class
聯絡方式
rayhua@nycu.edu.tw