半導體製程技術
Semiconductor Processing Technology
學期
113-2
學分
3
學分
當期課號
515217
永久課號
EEDM20016
開課單位
半導體工程學系
授課教師
張國明
校區
光復
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週二 |
|---|---|
7 15:30–16:20 | 半導體製程技術 ED301 3 節連堂 |
8 16:30–17:20 | |
9 17:30–18:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
培養及訓練學生對半導體及光電元件製造相關知識,讓學生了解半導體及光電材料、製程尖端技術與元件特性之關聯性,未來在就業職場上更有競爭力。
先修科目
物理、化學等基礎科學
教學方式
1. 使用投影片授課。 2. 優先採實體授課。若因疫情因素,如有必要將改「線上授課」方式進行。
評分方式
期中考試(35%),期末考試(45%),學期作業(20%)。 註:以上配分比例,會依群體學習效果酌與調整,由授課教授最後決定之。
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | Introduction : Material Physical and Electronic Properties 材料物理與電性質介紹 |
| 第 2 週 | Introduction : Material Physical and Electronic Properties 材料物理與電性質介紹 |
| 第 3 週 | Crystal Growth: Melt Growth, LPE, VPE, MBE.....etc. 長晶技術 |
| 第 4 週 | Crystal Growth : Melt Growth, LPE, VPE, MBE.....etc. 長晶技術 |
| 第 5 週 | Wafer Fabrication and Cleaning 晶片製造與清洗 |
| 第 6 週 | Wafer Fabrication and Cleaning 晶片製造與清洗 |
| 第 7 週 | 微影(Lithography)技術 |
| 第 8 週 | 期中考 |
| 第 9 週 | 氧化與擴散技術 |
| 第 10 週 | Epitaxial Growth Technology 薄膜技術之化學原理及化學品或氣體(含CVD及Oxidation) |
| 第 11 週 | Epitaxial Growth Technology 薄膜技術之化學原理及化學品或氣體(含CVD及Oxidation) |
| 第 12 週 | Submicron Etching Technology 蝕刻技術之化學原理及化學品或氣體(含乾式及濕式蝕刻技術) |
| 第 13 週 | Submicron Etching Technology 蝕刻技術之化學原理及化學品或氣體(含乾式及濕式蝕刻技術) |
| 第 14 週 | Metallization and Interconnection Technologies 金屬鍍膜技術 |
| 第 15 週 | Semiconductor Equipments and Vacuum Technologies 半導體設備與真空技術介紹 |
| 第 16 週 | 期末考 * 教學進度會依實際情況作調整 |
教科書
(1)主要讀本:張國明教授自編講義 (Class Notes). (2)參考書目: 1. Related Topics in Journals. 2. Sze, “VLSI Technology”. 3. Hong Xiao, “Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology”. 4. Williams, “Gallium Arsenide Processing Techniques”.
Office Hours
- 地點
- 工四館221室
- 時間
- 每週四下午 2:30 ~ 4:30
- 聯絡方式
- 請事先 e-mail 張國明教授 (kmchang1@nycu.edu.tw) 預約會談時段。