半導體微影、清洗、檢測技術與設備
Semiconductor Lithography, Cleaning and Inspection
學期
114-2
學分
3
學分
當期課號
556301
永久課號
ENSE30004
開課單位
工學院碩士在職專班-半導體組
授課教師
柯富祥
校區
光復
類別
選修
上課時間表
| 節 | 週一 |
|---|---|
A 18:30–19:20 | 半導體微影、清洗、檢測技術與設備 EF207 3 節連堂 |
B 19:30–20:20 | |
C 20:30–21:20 |
* 根據陽明交大上課時間表所列
概述
目前半導體業界的奈米製程已經到5 nm以下之水準，本課程介紹基本的半導體微影、清洗、檢測技術與設備，特別會著重在奈米製程之新技術，以使同學瞭解業界的製造技術與趨勢，未來並可以應用在其他需要奈米製程之產業上。
先修科目
普通物理或普通化學
評分方式
考試及出席率
週次計畫
| 週次 | 主題 |
|---|---|
| 第 1 週 | 1. The importance and trend of advanced lithography, cleaning and inspection for semiconductor manufacturing. 2. Basic process, tool and inspection for industrial lithography (TEL TRACK, In-Line SEM) |
| 第 2 週 | 2. Basic process, tool and inspection for industrial lithography (TEL TRACK, In-Line SEM) |
| 第 3 週 | 3. Material and tool for submicron scale fabrication (I-line photolithography, KrF photolithography) |
| 第 4 週 | 4. Material and tool for nano-scale fabrication (ArF photolithography, F2 photolithography) |
| 第 5 週 | 5. Principle and resolution enhancement technique (RET) for optical lithography (OAI, ARC, PSM, OPC) |
| 第 6 週 | 5. Principle and resolution enhancement technique (RET) for optical lithography (OAI, ARC, PSM, OPC) |
| 第 7 週 | 國訂假日 |
| 第 8 週 | Mid Exam |
| 第 9 週 | 6. Material and tool for immersion lithography |
| 第 10 週 | 7. Material and tool for next generation of extreme ultraviolet lithography (EUV) |
| 第 11 週 | 8. Material and tool for photomask/reticle fabrication |
| 第 12 週 | 9. Electron beam lithography (EBL) for pattern direct writing |
| 第 13 週 | 10. Material, tool and inspection for next generation of electron projection lithography (EPL) |
| 第 14 週 | 11. Material, tool and inspection for next generation of nanoimprint lithography (NIL) |
| 第 15 週 | 12. Material, tool and inspection for contamination control, wafer cleaning and post-CMP cleaning |
| 第 16 週 | Final Exam |
教科書
使用自編講義。 參考書如下: (1) Michael Quick and Julian Serda, Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall (2001). (2) H. Xiao, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, Prentice Hall (2001). (3) Alfred. K. Wong, Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography, SPIE Press (2001).
Office Hours
- 地點
- 工六館357室 週一下午6:30-9:20上課
- 時間
- 預約週一下午5:00-6:00或週一下課時
- 聯絡方式
- 校內分機 55803 fhko@nycu.edu.tw